Inkron, ein Unternehmen der Nagase-Gruppe, der weltweit führende Hersteller von siloxanbasierten, optisch klaren Nano-Imprint-Lithographie (NIL)-Materialien, tätigt eine strategische Investition in die Infrastruktur zur Entwicklung von NIL-Materialien und Komponenten. Die Investition wird Inkrons Entwicklung von optischen Hochleistungsmaterialien, die in kritischen Komponenten von Augmented-Reality-Brillen (AR-Brillen), 3D-Sensoren und anderen diffraktiven optischen Elementen (DOE) benötigt werden, erheblich beschleunigen. Die Fähigkeit von Inkron, seinen Kunden kundenspezifische optische NIL-Materialien mit schneller Durchlaufzeit und verbesserter Leistung zu liefern, wird durch diese Investition erheblich verbessert. Jetzt kann Inkron auch Komponenten-Prototyping und Kleinserienfertigung für seine Kunden anbieten.
Der Eckpfeiler der Investition ist der Kauf und die Installation eines automatisierten UV-NIL-Systems EVG®7200 von EV Group (EVG). Das System EVG 7200 nutzt die innovative SmartNIL®-Technologie und das Material-Know-how von EVG, um die Massenfertigung von Strukturen im Mikro- und Nanobereich mit unübertroffener Qualität zu ermöglichen. Das System ermöglicht eine kraftarme und konforme Prägung, eine schnelle Hochleistungsbelichtung und eine reibungslose Stempelablösung mit unübertroffenem Durchsatz und niedrigen Betriebskosten. Das System EVG 7200 mit SmartNIL-Technologie eignet sich ideal für die Massenproduktion von photonischen Bauelementen der nächsten Generation, einschließlich Wellenleitern und DOEs, für Anwendungen wie AR und Virtual Reality (VR). Zusätzlich zu diesen Merkmalen umfasst das an Inkron gelieferte Werkzeug eine hochintensive UV-Station, ein beheiztes Spannfutter und eine Unterstützung für Soft-UV-NIL für Mikrolinsengussanwendungen.
Inkron bietet NIL-verarbeitbare Materialien in einem breiten Brechungsindexbereich (RI), sogar bis zu 2,0. Die NIL-Materialien werden durch Überzugs-, Lückenfüllungs- und Planarisierungsbeschichtungen mit einem RI von nur 1,1 ergänzt. Die Kombination dieser Materialplattformen mit dem System EVG 7200 bietet eine ideale Infrastruktur für die Entwicklung neuartiger optischer Komponenten mit beschleunigten Durchlaufzeiten und ermöglicht gleichzeitig eine sorgfältige Optimierung der Harze und des Prozesses für spezifische Bauelemente. Zusätzlich zu den NIL-Ausrüstungen hat Inkron erhebliche Investitionen in Fertigungs- und Prüfausrüstungen für optische Strukturen getätigt und wird dies auch weiterhin tun, einschließlich der Prüfung der Geräteleistung und Zuverlässigkeit. Zur Unterstützung des NIL-Ökosystems von Inkron wurde ein engagiertes Team mit Materialwissenschaftlern, Lithographie-Verfahrenstechnikern und Photonikexperten unter der Leitung von VP Dr. Janne Kylmä eingerichtet. Die kommerzielle Seite der NIL-Aktivitäten wird vom VP Operations von Inkron, Herrn Jukka Perento, geleitet.
"Über unser NILPhotonics Competence Center arbeitet EV Group mit Unternehmen wie Inkron aus der gesamten Photonik-Lieferkette zusammen, um unsere NIL-Technologie und unser Fachwissen zu nutzen und die Entwicklung neuer Geräte und Anwendungen zu beschleunigen", erklärte Markus Wimplinger, Corporate Technology Development & IP Director bei EV Group. "Die Zusammenarbeit mit Inkron gibt uns die Möglichkeit, ihre Bemühungen bei der Entwicklung fortschrittlicher optischer Resists zu unterstützen, die für die Herstellung optischer Geräte der nächsten Generation von entscheidender Bedeutung sind".
"Wir freuen uns darauf, die Entwicklung unserer neuen, optimierten und innovativen optischen Resist-Technologien zu beschleunigen. Das neue System EVG 7200 spielt bei diesem strategischen Schritt eine entscheidende Rolle. Diese neuen Fähigkeiten werden uns dabei helfen, die kritischen Leistungs-Roadmaps unserer Kunden zu erfüllen und ihnen zum Erfolg verhelfen", erklärte Jukka Perento. "Unsere nano-imprintfähigen Materialien mit hohem Brechungsindex und passenden spaltfüllenden Beschichtungen, kombiniert mit dem NIL-System von EVG, bieten die kritischen Lösungen auf Wafer-Ebene, die Optikhersteller benötigen, um die Produktion ihrer neuesten Entwicklungen schnell zu steigern".
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