Inkron, une société du groupe Nagase, leader mondial des matériaux à base de siloxane et optiquement clairs pour la nanolithographie, investit stratégiquement dans l'infrastructure de développement des matériaux et composants NIL. Cet investissement accélérera considérablement le développement par Inkron de matériaux optiques à haute performance nécessaires aux composants critiques des lunettes de réalité augmentée (AR), des capteurs 3D et autres éléments optiques diffractifs (DOE). La capacité d'Inkron à fournir à ses clients des matériaux optiques NIL personnalisés avec un délai d'exécution rapide et des performances accrues sera considérablement améliorée grâce à cet investissement. Désormais, Inkron peut également fournir à ses clients des services de prototypage de composants et de fabrication en petites séries.
La pierre angulaire de l'investissement est l'achat et l'installation d'un système UV NIL automatisé EVG®7200 de EV Group (EVG). Le système EVG 7200 s'appuie sur la technologie innovante SmartNIL® d'EVG et sur son expertise en matière de matériaux pour permettre la fabrication en masse de structures à l'échelle micro et nanométrique avec une qualité inégalée. Le système permet une impression à faible force et conforme, une exposition rapide à haute puissance et un détachement en douceur du tampon, avec un débit inégalé et un faible coût de possession. Le système EVG 7200 doté de la technologie SmartNIL est parfaitement adapté à la production en volume de dispositifs photoniques de nouvelle génération, notamment les guides d'ondes et les DOE, pour des applications telles que la RA et la réalité virtuelle (RV). En plus de ces caractéristiques, l'outil qui a été livré à Inkron comprend une station UV haute intensité, un mandrin chauffant et un support pour les UV-NIL doux pour les applications de moulage de microlentilles.
Inkron propose des matériaux traitables NIL dans une large gamme d'indice de réfraction (RI) allant jusqu'à 2,0. Les matériaux NIL sont complétés par des revêtements de surcouche, de remplissage des interstices et d'aplanissement avec un indice de réfraction aussi bas que 1,1. La combinaison de ces plates-formes de matériaux et du système EVG 7200 offre une infrastructure idéale pour le développement de nouveaux composants optiques avec un délai d'exécution accéléré tout en permettant une optimisation minutieuse des résines et du processus pour des dispositifs spécifiques. Outre l'équipement NIL, Inkron a réalisé et continue de réaliser des investissements importants dans la fabrication de structures optiques et dans les équipements de test, notamment pour les tests de performance et de fiabilité des dispositifs. Une équipe spécialisée a été mise en place pour soutenir l'écosystème NIL d'Inkron, avec des scientifiques spécialisés dans les matériaux, des ingénieurs en lithographie et des experts en photonique, sous la direction du vice-président, le Dr Janne Kylmä. L'aspect commercial des activités NIL est dirigé par le vice-président des opérations Inkron, M. Jukka Perento.
"Grâce à notre centre de compétence en photonique NIL, EV Group s'associe à des entreprises comme Inkron tout au long de la chaîne d'approvisionnement en photonique afin d'exploiter notre technologie et notre expertise en matière de NIL pour accélérer le développement de nouveaux dispositifs et de nouvelles applications", a déclaré Markus Wimplinger, directeur du développement technologique et de la propriété intellectuelle de l'entreprise chez EV Group. "Travailler avec Inkron nous donne l'opportunité de soutenir leurs efforts dans le développement de résistances optiques avancées qui sont essentielles à la fabrication des dispositifs optiques de la prochaine génération".
"Nous sommes enthousiastes à l'idée d'accélérer le développement de nos nouvelles technologies de résines optiques optimisées et innovantes. Le nouveau système EVG 7200 joue un rôle essentiel dans cette démarche stratégique. Ces nouvelles capacités nous aideront à répondre aux feuilles de route critiques de nos clients en matière de performances et les aideront à réussir", a déclaré Jukka Perento. "Nos matériaux nano-imprimables à haut indice de réfraction et les revêtements de remplissage des lacunes correspondants, combinés au système NIL d'EVG, fournissent les solutions critiques au niveau des plaquettes dont les fabricants d'optiques ont besoin pour augmenter rapidement la production de leurs derniers développements".
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