Inkron, una società del gruppo Nagase, leader mondiale nel settore dei materiali NIL (Nano-Imprint Lithography) a base di silossani e otticamente trasparenti, effettua un investimento strategico nelle infrastrutture per lo sviluppo di materiali e componenti NIL. L'investimento accelererà in modo significativo lo sviluppo da parte di Inkron dei materiali ottici ad alte prestazioni necessari per i componenti critici degli occhiali a realtà aumentata (AR), dei sensori 3D e di altri elementi ottici diffrattivi (DOE). La capacità di Inkron di fornire ai propri clienti materiali ottici NIL personalizzati con tempi di consegna rapidi e prestazioni migliorate sarà significativamente migliorata con questo investimento. Ora Inkron è in grado di fornire ai propri clienti anche servizi di prototipazione di componenti e di produzione in piccole serie.
La pietra angolare dell'investimento è l'acquisto e l'installazione di un sistema UV NIL automatizzato EVG®7200 di EV Group (EVG). Il sistema EVG 7200 sfrutta l'innovativa tecnologia SmartNIL® di EVG e la competenza dei materiali per consentire la produzione di massa di strutture in micro e nanoscala con una qualità senza pari. Il sistema fornisce un imprinting a bassa forza e conforme, un'esposizione rapida ad alta potenza e un distacco agevole del timbro con una produttività ineguagliabile e bassi costi di gestione. Il sistema EVG 7200 con tecnologia SmartNIL è ideale per la produzione in serie di dispositivi fotonici di nuova generazione, comprese guide d'onda e DOE, per applicazioni come AR e realtà virtuale (VR). Oltre a queste caratteristiche, lo strumento che è stato spedito a Inkron comprende una stazione UV ad alta intensità, mandrino riscaldato e supporto per soft-UV-NIL per applicazioni di stampaggio a microlente.
Inkron offre materiali lavorabili NIL in un ampio intervallo di indice di rifrazione (RI) anche fino a 2,0. I materiali NIL sono completati con rivestimenti overcoat, gap fill e planarizzazione con RI fino a 1,1. La combinazione di queste piattaforme di materiali e il sistema EVG 7200 fornisce un'infrastruttura ideale per lo sviluppo di nuovi componenti ottici con tempi di risposta accelerati, consentendo al tempo stesso un'attenta ottimizzazione delle resine e del processo per dispositivi specifici. Oltre alle apparecchiature NIL, Inkron ha fatto e continua a fare investimenti significativi nella produzione di strutture ottiche e nelle apparecchiature di collaudo, compresi i test delle prestazioni e dell'affidabilità dei dispositivi. È stato creato un team dedicato per supportare l'ecosistema NIL di Inkron con scienziati dei materiali, ingegneri di processo litografici ed esperti di fotonica, guidati dal VP Dr. Janne Kylmä. La parte commerciale delle attività NIL è diretta dal VP Operations di Inkron, Jukka Perento.
"Attraverso il nostro NILPhotonics Competence Center, EV Group collabora con aziende come Inkron di tutta la catena di fornitura della fotonica per sfruttare la nostra tecnologia NIL e la nostra esperienza per accelerare lo sviluppo di nuovi dispositivi e applicazioni", ha dichiarato Markus Wimplinger, direttore dello sviluppo tecnologico aziendale e IP di EV Group. "Lavorare con Inkron ci offre l'opportunità di sostenere i loro sforzi nello sviluppo di resistenze ottiche avanzate che sono fondamentali per la produzione di dispositivi ottici di prossima generazione".
"Siamo entusiasti di accelerare lo sviluppo delle nostre nuove tecnologie ottiche in resina, ottimizzate e innovative. Il nuovo sistema EVG 7200 gioca un ruolo vitale in questa mossa strategica. Queste nuove capacità ci aiuteranno ad affrontare le roadmap delle prestazioni critiche dei nostri clienti e li aiuteranno ad avere successo", ha dichiarato Jukka Perento. "I nostri materiali ad alto indice di rifrazione nano-improntabili e i nostri rivestimenti di riempimento dei gap, combinati con il sistema NIL di EVG, forniscono le soluzioni critiche a livello di wafer di cui i produttori di ottiche hanno bisogno per aumentare rapidamente la produzione dei loro ultimi sviluppi".
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